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真空鍍膜機的種類繁多,接下來我們來拿磁控濺射鍍膜機來舉一下例子:該設備集控磁控濺射與離子鍍膜技術為一體,對提高顏色一致性,沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求,可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置,其靶位分布可靈活調整;膜層均勻性優越;配備不同的靶材,可鍍制出心梗較好的復合膜層。設備所鍍的制的膜層具有附著力強,致密性高的優點,可有效提高產品的耐鹽霧性,耐磨性及產品表面
? ? ? ? ? 由于真空鍍膜設備要在真空條件下工作,因此該設備要滿足真空對環境的要求。我國制減定的各類真空鍍膜設備的行業標準(包括真空鍍膜設備通用技術條件、真空離子鍍膜設備、真空濺射鍍膜設備、真空蒸發鍍膜設備)都對環境要求作了明確規定。只有滿足了真空鍍膜設備對環境的要求,才能使該設備正常運轉,加上正確的鍍膜工藝,方能生產出合格的鍍膜產品。真空對
????電鍍和真空鍍的區別有哪些?接下來讓我們一起來了解一下,較方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍:是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程,是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下,經電極反應還原成金屬原子,并在陰極上進行金屬沉積
在真空鍍膜技術中,磁控濺射鍍膜技術屬于比較常見的一種鍍膜技術。今天,廣東真空鍍膜設備廠家就告訴大家,磁控濺射鍍膜技術的優點和缺點: 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小; 2、對于大部分材料,只要能制成靶材,就可以實現濺射; 3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好; 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好; 5、濺射工藝可重復性好,可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜; 6、能夠控制
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