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KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)
上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性(1 σ)達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,
某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?,作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應(yīng)商.?在設(shè)計真空系統(tǒng)時,?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸(16
Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺紅外原位瞬態(tài)反應(yīng)過程分析實驗平臺是與世界實驗室同步水平研究的變溫變壓綜合實驗設(shè)備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復(fù)雜反應(yīng)過程研究.紅外原位分析平臺的主要特點是對固體材料進行嚴(yán)格的高真空和高溫預(yù)處理, 可在高真空
氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開關(guān)柜檢漏應(yīng)用于電力行業(yè)的中壓開關(guān)柜, 廣泛使用在發(fā)電廠, 變電站, 地區(qū)電網(wǎng)和輸電站中. 另外也適用于船舶, 高鐵等. 中壓開關(guān)柜是一種金屬封閉開關(guān)設(shè)備, 它對中壓開關(guān)以外的其他設(shè)備, 起到很好的絕緣性能, 避免電弧燒穿電力設(shè)備, **電力使用上的安全, 中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路.開關(guān)吸合器需要檢漏中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路, 吸合器內(nèi)部真空環(huán)境, 如果有漏,
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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