湛江皮革廢氣處理治理**廢氣

時間：2019-05-09作者：東莞市永綠環保工程有限公司瀏覽：155

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  半導體制造行業廢氣處理工藝半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。揮發性**廢氣主要來源于光刻、顯影、刻蝕及擴散等工序，在這些工序中要用**溶液（如異丙醇）對晶片表面進行清洗，其揮發產生的廢氣是**廢氣的來源之一；同時，在光刻、刻蝕等過程中使用的光阻劑（光刻膠）中含有易揮發的**溶劑，如醋酸丁酯等，在晶片處理過程中也要揮發到大氣中，是**廢氣產生的又一來源。 與半導體制造工藝相比，半導體

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  消聲彎頭是內襯吸聲材料的彎頭，對聲波有顯著衰減作用。聲衰減由三部分組成：近軸向波在彎頭壁的吸收和反射，以及近軸向波的能量在拐彎時轉變為斜向波的能量而被吸聲材料有效吸收。在矩形截面管中插入一直角消聲彎頭，而在彎頭兩側各加鋪吸聲襯墊，長度為2至4lz（lz是管截面的特征寬度），則高頻的插入損失比同樣長度的襯墊直管的插入損失要高10dB。所謂高頻，即 ，**管道截至頻率的頻率。消聲彎頭在低頻的作用，與同