宜興市活性炭處理器 uv光解催化二級活性炭一體機

時間：2020-04-16作者：江蘇祿景環(huán)保設(shè)備有限公司瀏覽：144

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  詞條說明

• 影響UV光解除臭設(shè)備工作效率的因素有哪些

  影響UV光解除臭設(shè)備治理VOCs效率的主要因素如下： UV波長，起始溫度，初始濃度，相對濕度，停留時間，反應介質(zhì)。 初始濃度的影響 1、隨著甲苯濃度增高，降解效率降低。這是由于真空紫外燈**的185 nm的紫外線能量強度有限，單位時間內(nèi)光解效率下降。 2、單純的增加燈管的數(shù)量是無法解決高濃度**氣體問題，紫外光解技術(shù)不適合中高濃度VOCs氣體。 相對濕度的影響 1、相對濕度低的條件下，氧氣吸收了大

• 高能離子低溫等離子除臭設(shè)備有機廢氣處理VOCs

  高能離子除臭凈化系統(tǒng)是參照國外的**，自行設(shè)計的除臭設(shè)備。它能有效地處理廢氣中的細菌、可吸入顆粒物、硫化合物等有害物質(zhì)。它的**裝置是離子廢氣凈化系統(tǒng)，其工作原理是置于設(shè)備內(nèi)的離子發(fā)生裝置**出高能正、負離子，它可以與空氣中的**揮發(fā)性氣體分子（VOC）接觸，打開VOC分子化學鍵，分解成二氧化碳和水；對硫化氫、氨同樣具有分解作用；離子發(fā)生裝置**離子與空氣中塵埃離子及固體顆粒碰撞，使顆粒電產(chǎn)生

• 活性氧離子除臭設(shè)備TH-LZ 離子發(fā)生器高新材料

  一、高能離子介紹高能離子除臭凈化系統(tǒng)是參照國外的，自行設(shè)計的除臭設(shè)備。它能有效地處理廢氣中的細菌、可吸入顆粒物、硫化合物等有害物質(zhì)。它的**裝置是離子廢氣凈化系統(tǒng)，其工作原理是置于設(shè)備內(nèi)的離子發(fā)生裝置**出高能正、負離子，它可以與空氣中的**揮發(fā)性氣體分子（VOC）接觸，打開VOC分子化學鍵，分解成二氧化碳和水；對、同樣具有分解作用；離子發(fā)生裝置**離子與空氣中塵埃離子及固體顆粒碰撞，使顆粒電產(chǎn)生

• 遼寧大連活性氧除臭設(shè)備

  惡臭氣體光解凈化設(shè)備 除惡臭：能去除揮發(fā)性**物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達99%以上，脫臭效果大大**過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。 惡臭氣體利用排風設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化