CITE2023 |鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石等全系列方案亮相，備受矚目

時間：2023-04-13作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司瀏覽：265

鵬城半導體技術（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

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  詞條說明

• PVD技術在半導體器件中的應用

  在快速發展的半導體技術領域，物相沉積（PVD）是實現薄膜沉積工藝精度和效率的關鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術在半導體行業中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜，利用諸如濺射或蒸發等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具，可以創建復雜和的設備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關鍵作用，TFT是平板顯示器、發光二管(OLED)

• 新一代半導體技術-真空鍍膜技術的現狀及發展趨勢

  摘要：隨著可持續發展觀的深入普及和社會經濟的快速發展，經濟與環保協同發展成為當下企業發展和科技創新的主要趨勢。傳統的通電鍍膜技術會產生較大的污染，且鍍膜質量不高，經濟效益低下，已逐漸退出歷史舞臺，取而代之的是技術較加**、鍍膜質量較加優秀的真空鍍膜技術。真空鍍膜技術始于20世紀30年代，當前真空鍍膜技術已從實驗室走向了工廠，實現了大規模生產，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業領域得到了廣泛的應用

• CITE2023 |鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石等全系列方案亮相，備受矚目

  2023年4月9日，為期三天的*十一屆中國電子信息博覽會(英文簡稱：CITE2023)在深圳福田會展中心圓滿落幕。? ? ? ? ? ? ??左一（黑龍江副省長-王嵐女士）左二（鵬城半導體 董事 吳向方教授）本屆展會上鵬城半導體攜帶多功能磁控濺射、熱絲CVD金剛石、分子束外延系統MBE等多個解決方案亮相，現場人潮涌動，

• 等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》

  等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了