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太陽能電池擴散工藝及其設備 太陽能電池擴散工藝及其設備 ????技術方案是:一種太陽能電池擴散工藝,在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風壓力,使抽氣排風壓力這個參數保持穩定,抽氣排風壓力這個參數保持穩定,抽氣排風壓力的穩定導致辭磷在硅片中的注入濃度穩定,使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩定,在后道的燒結中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風壓力通過在機臺排
? 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD) PECVD(等離子增強化學氣相淀積)設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的**設備。淀積溫度范圍寬( 100~600oC可調),特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化,用以提高器件和集成電路可靠性。目前,它已成為微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。 產品特點: 1、膜質量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機(易漏大氣而
?單管氧化爐技術方案 ? ????????????? (單管程序氧化爐) ? ?????????????&n
空爐(vacuum furnace)是真空環境中進行加熱的設備。在金屬罩殼或石英玻璃罩密封的爐膛中用管道與高真空泵系統聯接。爐膛真空度可達133×(10-2~10-4)h。爐內加熱系統可直接用電阻爐絲(如鎢絲)通電加熱,也可用高頻感應加熱。較高溫度可達3000℃左右。主要用于陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊,以及陶瓷-金屬封接等。 目 錄 1概述 2構造 3原理 4功能 5
公司名: 青島福潤德微電子設備有限公司
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